Kiselkarbid med hög renhet

Kiselkarbid- och kiselkarbidunderlagsmaterial är allmänt använda material i modern tillverkning. De har utmärkta egenskaper som hög styrka, hög värmeledningsförmåga och hög kemisk stabilitet, så de används allmänt inom olika områden, såsom elektronik, flyg-, halvledare etc.

Den strukturella formeln för kiselkarbid är SIC, vilket är en rumslig nätverksstruktur. Varje kolatom bildar en kovalent bindning med fyra kiselatomer, och varje kiselatom bildar en kovalent bindning med fyra kolatomer. I kiselkarbidkristaller bildar kiselatomer hexagonala plan och kolatomer är belägna i mitten av de hexagonala planen. Flera sådana hexagonala plan är anslutna till varandra för att bilda kiselkarbidkristaller.

Zhenan är ett företag som specialiserat sig på metallurgiska och eldfasta produkter, integrering av produktion, bearbetning, försäljning och import och export av företag. Vi är fokuserade på att bygga ett dedikerat team av proffs över hela världen. På Zhenan är vi engagerade i att tillhandahålla kompletta lösningar genom att leverera "rätt kvalitet och kvantitet" för att passa våra kunders processer.

Populära Taggar: hög ren kiselkarbid för polering, Kina hög ren kiselkarbid för polering tillverkare, leverantörer, fabrik